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MiniLab-30T PVD 薄膜沉积系统

应用领域:

适合蒸镀对氧较敏感的金属膜( AlAuAgCu 等),也可蒸镀各种氧化物材料。可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满 足发光器件 OLED(有机发光二极管)。及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。 可镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单层 / 多层 / 复合膜,( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);镀制非金属 / 化合物等 材料薄膜( Mo03, LiF 等;有机材料等蒸发;太阳能电池、LED 的研究和实验;描电镜制样等

MiniLab 30 PVD 薄膜沉积系统 (电阻蒸发).JPG

基本配置:

真空腔室:350×400mm 不锈钢 D 形腔体。前门铰链方便真空室清理;腔室底板,顶部和侧面装有腔室内硬件接口;前 门上配直径 80 玻璃观察窗(含手动防污染挡板、可拆洗防污玻璃);腔体可选择水冷。 

抽气系统: 采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统; 主抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮气压缩比≥ 109 前级泵:VRD-24 机械泵及电磁阀,抽速:6L/S 主抽阀: CCQ-150 超高真空气动插板阀 

* 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

真空测量:数显复合真空计:两低一高全量程数显复合真空计; 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

极限真空:<5×10-5Pa 恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 热蒸发 / 有机物蒸发源: 最多 4 组金属蒸发源,水冷电极和盒式防污染蒸发源;(可选配置) 最多 4 个有机束源炉,采用氧化铝或石英坩埚(2CC)(可选配置) 

蒸发电源:采用恒压、恒流真空镀膜电源,最大输出功率 2.4Kw 电流调节精度 0.01A,电压调节精度 0.01V,数量:2  

样品台:可容纳样品最大尺寸:4 英寸样品托一个 , 配挡板,转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温, 温度范围:室温 -600,控温精度 ±0.5 

系统控制:10 英寸触摸屏 +PLC 控制(可选手动按钮)

选择配置:

样品台可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控温 

速率 / 膜厚监测仪(SQM-160 薄膜镀层控制仪(SQC-310 

可选进口蒸发电源 全量程真空计 (Inficon) 

样品托 : 不锈钢、铝或铜,基片盘上有螺纹孔。

系统要求标准配置:

工艺气体 :25psi,纯度 99.99% 以上 

工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

: 单相 220V, 50Hz,32A 

:18-25 , 3L/min,压力 <0.4MPa