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MiniLab-60T PVD 薄膜沉积系统

应用领域:

适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等 , 用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单 / 多层 / 复合膜,例:铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等;用于太阳能电池、LED 的研究和实验。用于有机材料等蒸发; 镀制非金属 / 化合物等材料薄膜等

 MiniLab 60G热蒸发.jpg

基本配置:

真空腔室: D 型圆筒形,尺寸约 ф450×H450mm,前开门结构;采用铰链、铝制前门,手动,上下 2 个杠杆把手,胶圈密封, 腔体内表面采用电解抛光处理;外表面采用拉丝抛光,无擦伤及划痕。 

抽气系统:采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统; 主抽泵:分子泵抽速≥ 1200L/S,氮气压缩比≥ 109 前级泵:VRD-30 机械泵及电磁阀,抽速:8L/S 主抽阀: CCQ-200 超高真空气动插板阀 

* 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

真空测量:数显复合真空计:两低一高全量程数显复合真空计; 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

极限真空:<5×10-5Pa 

恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

蒸发源(选配): 金属蒸发源:4 组金属蒸发源在腔体底部呈发散形分布 , 相互间挡板隔开 , 避免交叉污染,兼容金属和有机材料蒸镀; 炉:4 组有机蒸发源,坩埚容量(2CC),角度 0-30 度可调,最高温度:700,控制精度 ±0.5 

蒸发电源:采用恒压、恒流真空镀膜电源,功率 2.4Kw;电流调节精度 0.01A,电压调节精度 0.001V,数量:2 有机物蒸发电源:采用 10V30A 稳流电源,电流调节精度:0.01A,最小分辨率:0.1mV0.1mA 数量:2  

样品台:可容纳样品最大尺寸:6 英寸样品托一个 , 配挡板,转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温,温度范围:室 -600,控温精度 ±0.5( 可选带掩膜库系统样品台

膜厚监测仪:采用 Inficon SQM-160 速率 / 膜厚监测仪,配 1 个水冷探头。在线监测蒸发速率与达到膜厚关闭基片挡板。 

控制单元:15 英寸触摸屏 +PLC 控制

选择配置:

样品台可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控温 

可选薄膜镀层控制仪(SQC-310 

可选进口蒸发电源 

全量程真空计 (Inficon) 

样品托 : 不锈钢、铝或铜,基片盘上有螺纹孔

系统要求标准配置:

工艺气体 :25psi,纯度 99.99% 以上 

工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

: 三相 380V, 50Hz, 32A 

:18-25 , 6L/min,压力 <0.4MPa