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MiniLab-60S PVD 薄膜沉积系统

应用领域:

系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜 , 可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等。

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  四靶共聚焦溅射微信图片_20220323161320.jpg

基本配置:

真空腔室: D 型圆筒形,尺寸约 ф450×H450mm,前开门结构;采用铰链、铝制前门,手动,上下 2 个杠杆把手,胶圈密封, 腔体内表面采用电解抛光处理;外表面采用拉丝抛光,无擦伤及划痕。 

抽气系统:采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统; 主抽泵:分子泵抽速≥ 1200L/S,氮气压缩比≥ 109 前级泵:VRD-30 机械泵及电磁阀,抽速:8L/S 主抽阀: CCD-200 超高真空电动插板阀 

* 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

真空测量: 数显复合真空计:两低一高全量程数显复合真空计; 自动恒压采用进口薄膜压强真空规测量,范围:13Pa-0.013Pa(可选择配置) 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

极限真空:<5×10-5Pa 

恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

磁控溅射靶:(最多四支 2&3 英寸磁控溅射靶)磁控溅射靶磁路模块化设计;磁控靶可手动调节溅射角度,靶与基片的距 离可调;其中一个靶位可溅射磁性材料(如镍或铁等)靶材大小为直径 50.8mm,厚度≤ 5mm,靶材利用率超过 40% 

镀膜方式:由下往上溅镀或从上往下溅射,可依需求采用 Confocal(共焦)或 Face-to-Face(面对面); 

溅射电源(可选配置): 射频电源: 功率 500W,输出频率:13.56MHz,全自动匹配 数量:1 直流溅射电源:最大输出功率:500W;输出电压:0 -800V 可调 数量:2  

工艺气路:三路质量流量计控制的气路(ArO2N2 )等 

样品台:可容纳样品最大尺寸:6 样品托一个 , 配挡板, 转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温, 温度范围:室温 -600,控温精度 ±0.5 

控制单元:15 英寸触摸屏 +PLC 控制(可选手动按钮)

选择配置:

样品台可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控温 可选进口溅射电源 

磁控靶可选用进口知名品牌 

全量程真空计 (Inficon) 

电容式隔膜真空计 ( 测量溅射工作压力

样品托 : 不锈钢、铝或铜,基片盘上有螺纹孔

系统要求标准配置:

工艺气体 :25psi,纯度 99.99% 以上 

工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

: 三相 380V, 50Hz, 32A 

:18-25 , 6L/min,压力 <0.4MPa